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电子厂的有机废气处理方法:洗涤塔+光氧催化设备+活性炭吸附

July 13, 2021 废气处理设备 71

如何处理无机废气和有机废气


废气处理有无机废气处理和有机废气处理两种。 无机废气主要含有氧化物、HCL、HF、H2S、SO2等无机废气。 有机废气中主要含有苯、甲苯、二甲苯等,醛酮类:醛类、戊二醛、丁醛、环己酮、甲乙酮、笨乙酮等;酯类:醋酸异丁酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸甲酯、香蕉水等;醇类:甲醇、乙醇、丁酯、异丁醇、乙二醇等。 以下小编将介绍应该如何处理无机和有机废气。
无机废气的处理通常使用水吸收法。

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利用水喷淋塔,废气在风机的抽吸压力作用下从水喷淋塔底部侧面进入,自下而上,通过填充层的花环改变流速,增大接触面积和时间。 塔体的上部设有淋浴系统,与喷嘴喷射的药液发生酸碱中和反应,通过除雾层上升气流中的废气浓度越来越低,进行有机类废气的处理。

我们通常使用活性炭吸附法,利用活性炭在固体表面的吸附能力, 使有机废气与大表面的多孔性固体物质接触,废气中的污染物被吸附在固体表面,与气体混合物分离,可以净化企业现场排出的有机废气。


电子厂的有机废气处理方法


目前,随着电子行业的快速发展,电子元器件生产产生的废气污染也在持续,一般是电子元器件生产线产生的废气等,其中主要污染物为苯、甲苯、二甲苯甲乙酮、乙酸乙酯等有机废气,如未经处理直排会影响周围环境的质量,对人体的危害也是极为严重,所以企业要有环保意识,必须进行废气处理后才能排入大气之中。目前,国家加大了环境保护力度,对企业的废气处理要求也越来越高。 电子行业的废气应该用什么样的设备进行有效的处理呢?
电子厂的废气处理方法有好几种,为了高效获得满意的效果,可以组合多种废气处理方法:洗涤塔+光氧催化设备+活性炭吸附。 逆流式洗涤塔:废气经过填充式洗涤塔和洗涤液的中和作用(通过填充物增加接触面积)去除有害物。 光氧催化装置:催化的光氧化反应。 可以将有机污染物完全分解成二氧化碳、水和无机水分子物质。 环境中常见的催化剂是二氧化钛(TiO2),大气颗粒物中含有该成分,催化烃类化合物的光氧化反应。

电子厂的有机废气处理方法:洗涤塔+光氧催化设备+活性炭吸附

活性炭吸附:非甲烷总烃用活性炭吸附,用上述方法非甲烷总烃的残留率小于10%。 确保活性炭吸附剂的正常运行和效果,加强日常维护,每隔一段时间更换活性炭。
通过以上的废气处理流程处理电子设备的有机废气,废气净化率达到95%以上,没有二次污染。 安装和试运行完成后,设备运行良好,废气排放量符合标准,通过国家有关排放标准。

半导体废气处理设备的方法


这几年,环境保护一直是一个热门话题。 随着半导体工厂的发展,废气污染也越来越严重,半导体工厂的亚博外围直营是如何处理的呢? 半导体工厂的废气在处理中采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法。 根据废气的排出,可以分为普通废气(GEX  )、酸性废气(SEX  )、碱性废气(AEX  )、有机废气(VEX  )。 对不同的污染物采用不同的处理方法。

1.1有机废气处理系统:含有半导体制造过程中排出的有机成分的废气(voc  )通常通过直接焚烧、活性炭吸附、生物氧化等方法处理,但直接焚烧低浓度大风量的有机废气会引起大量燃料消耗和不必要的污染,高浓度活性炭吸附的方法从其材料特性来看,具有容易燃烧、水分灵敏度高、解吸后的残留负荷高等缺点,在半导体制造界几乎不使用。 生物氧化技术作为比较新的处理技术在处理大风量方面有待进一步的研究和发展。

废气治理,VOCs废气治理

半导体制造的有机废气的特征是浓度低,但由于排气量大,所以必须考虑浓缩有机废气进行焚烧处理。 沸石浓缩转轮系统和焚烧炉焚烧系统的组合可以很好地解决这个问题。 沸石浓缩轮焚烧处理的系统处理原理是将大风量低浓度有机废气转换为小风量高浓度气流,对浓缩的高浓度有机废气进行焚烧处理,主要优点是系统处理效率(95% )高,操作简单,清洗维护容易数据表明,解吸风量和焚烧炉的运行温度确实是影响系统处理效率和能耗的最主要因素,焚烧温度越高解吸风量越大处理效率越高,但能耗也同时上升。

1.2酸性、碱性废气处理系统:采用分别收集、分离处理半导体制造中产生的酸性和碱性废气的方法,但处理设备和处理原理基本相同。 含有酸性/碱性物质的废气在半导体工厂多采用大型清洗式中央废气处理系统处理。 由于半导体制造作业区域远离中央废气处理系统,因此部分酸性/碱性废气在输送到中央废气处理系统之前,根据气体特性在配管中堆积结晶和粉尘,配管堵塞后气体泄漏,严重的东西爆炸,现场作业因此,有必要在工作场所配置适合工艺气体特性的当地废气处理设备进行当地处理,然后排出到中央处理系统。 另外,剧毒物、自燃、爆炸性等特殊废气需要用干式洗涤塔等设备通过吸附或氧化/燃烧等方法进行现场处理,然后排出人的中央废气处理系统。 中央废气处理系统的核心设备是采用水洗式的洗涤塔,其主要功能是控制洗涤塔的水的酸碱度、电导率等参数,废气和水交叉流动时废气在洗涤塔中与水充分接触,吸收其中的酸性或碱性物质在系统的实际运行中,发现影响系统处理效率的另一个因素是循环水量的问题。

1.3一般排气系统:半导体工厂的一般排气(GEX  )系统在运转中也被称为热排气系统,在生产中有些设备局部产生大量的热,或者产生影响高洁净度生产环境的含尘无害气体。 为了满足半导体工艺对环境温湿度((221 )、(455 ) % )和洁净度的极高要求,可以用管道系统收集这样的废气,用鼓风机提取排出。

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在部分设备热排气的洁净度采样检查中,一般排气用于提取设备的含尘排出,但从一般排气系统提取的气体直接来自洁净室内,设备的含尘排出浓度较低,因此通过总管道检测的结果为洁净水平根据设备排出点的温度测量,根据设备和排出点的不同,热排气温度的差最大为42,最低为22,但总排出口的温度测量不超过26,比洁净室温度稍高,在室温范围内。 因此,GEX可以直接排放到大气环境中,不进行任何处理,是无害的排放。
2、结语:废气处理是半导体制造企业不可缺少的环保环节,作为代表大规模先进制造技术的产业,半导体制造企业注意废气排放对环境的污染、对先进半导体工艺的影响,即AMC问题,废气排放的处理基于环境管理系统的国际认证(ISOl40o1 )和基于职业安全卫生管理系统的国际认证(OHSAS18001 )是国内半导体企业走向国际市场的通行证。



文章来源:废气处理设备网

文章标题:电子厂的有机废气处理方法:洗涤塔+光氧催化设备+活性炭吸附

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